Molex 公司的附属公司Polymicro科技公司近日宣布改进其FDP光纤。最新的增强功能是提高了光纤在深紫外线应用（190～325 nm）中的日晒。
Polymicro硅芯FDP光纤具有超高紫外线传输和超低紫外线日晒特点，具有超强的耐辐射性。工作波长可低达190 nm，具有优良的耐深紫外线日晒特性，FDP光纤已成为在高水平紫外线辐射效应导致光纤和传输劣化的深UV区域应用的一种光纤选择。光纤通常在几个小时后丧失传输功能。新的FDP光纤提供了更大的耐日晒性，可以维持更长的传输时间，同时最大限度地减少对光纤的损坏。
“对于Polymicro客户来说，这转化为更好的发光和更长的产品寿命。”Polymicro科技公司全球产品经理Teodor Tichindelean说。“该光纤FDP的推出使UV应用发生巨大变化。我们很高兴为客户带来具有更好的品质，可以抵御紫外线照射的增强型FDP光纤。”
具有三维控制和严格的公差，Polymicro科技公司的FDP光纤提供了一系列的选项，包括自定义纤芯尺寸、涂层、缓冲层和组件。Molex公司和Polymicro科技公司均通过ISO 9001、13485和14001认证。 Tichindelean补充说，“与以前的版本相比，改进的FDP光纤初步降解后提供大约多10％的光输出。对于Polymicro客户来说，这转化为更好的发光和更长的产品寿命。”
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